Китайська компанія Prinano з Ханчжоу оголосила про досягнення значного технологічного прогресу у сфері напівпровідників. Стартапу вдалося створити 203-міліметрові оптичні чип-пластини, що є важливим кроком для галузі.
Ключовою особливістю розробки є відмова від використання традиційних систем глибокої ультрафіолетової літографії. Це дозволяє виробляти компоненти в обхід існуючих технологічних обмежень, які стримують розвиток сектору.
За наявними даними, впровадження такого методу може суттєво змінити підходи до виготовлення фотонних чипів. Нова технологія відкриває можливості для незалежного виробництва високотехнологічних пластин без залежності від складного обладнання.